《Iet Control Theory And Applications》重點專注發(fā)布工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域的新研究，旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。鼓勵該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實驗研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今，在工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域，有較高影響力，對來稿文章質(zhì)量要求較高，稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。
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| 計算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) | AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS 自動化與控制系統(tǒng) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 計算機(jī)科學(xué) | 4區(qū) | AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS 自動化與控制系統(tǒng) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 計算機(jī)科學(xué) | 3區(qū) | AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS 自動化與控制系統(tǒng) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
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| 工程技術(shù) | 3區(qū) | AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS 自動化與控制系統(tǒng) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 | 3區(qū) 3區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
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| 計算機(jī)科學(xué) | 3區(qū) | INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS 自動化與控制系統(tǒng) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
中科院JCR分區(qū)：中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果，是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個重要指標(biāo)，一般而言，發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文，通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國際上通用的期刊評價指標(biāo)，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS | SCIE | Q2 | 41 / 84 |
51.8% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 183 / 352 |
48.2% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 34 / 76 |
55.9% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：AUTOMATION & CONTROL SYSTEMS | SCIE | Q3 | 45 / 84 |
47.02% |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 176 / 354 |
50.42% |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q3 | 39 / 76 |
49.34% |
CiteScore 排名
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Mathematics 小類：Control and Optimization | Q1 | 23 / 130 |
82% |
| 大類：Mathematics 小類：Control and Systems Engineering | Q2 | 89 / 321 |
72% |
| 大類：Mathematics 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q2 | 224 / 797 |
71% |
| 大類：Mathematics 小類：Computer Science Applications | Q2 | 270 / 817 |
67% |
| 大類：Mathematics 小類：Human-Computer Interaction | Q2 | 67 / 145 |
54% |
CiteScore：是由Elsevier2016年發(fā)布的一個評價學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo)，該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的，都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo)，給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。
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