根據最新信息《Crystallography Reviews》期刊在JCR分區中的排名如下：
按JIF指標學科分區學科為CRYSTALLOGRAPHY，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名14 / 33，百分位59.1%；按JCI指標學科分區在學科為CRYSTALLOGRAPHY，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名10 / 33，百分位71.21%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：CRYSTALLOGRAPHY | SCIE | Q2 | 14 / 33 |
59.1% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：CRYSTALLOGRAPHY | SCIE | Q2 | 10 / 33 |
71.21% |
這表明該刊在晶體學領域具有較高的學術影響力和認可度。此外，該刊創刊時間：1987年，影響因子：2，出版周期：4 issues/year、出版商：Taylor and Francis Ltd.以及收錄情況等信息也為其學術影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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