《Crystal Research And Technology》雜志主要接收以下類型的文章：
CRYSTALLOGRAPHY領(lǐng)域的研究?：文章內(nèi)容涵蓋領(lǐng)域的最新研究成果、技術(shù)革新和學術(shù)動態(tài)。
高質(zhì)量學術(shù)論文?：雜志對文章質(zhì)量要求較高，通常接收具有創(chuàng)新性和學術(shù)價值的研究成果。
投稿要求
內(nèi)容要求：投稿的文章應(yīng)涵蓋材料科學的關(guān)鍵主題，提供最新的研究進展和學術(shù)動態(tài)。
格式要求：投稿者需要遵循《Crystal Research And Technology》雜志的投稿要求和格式規(guī)范，包括文章結(jié)構(gòu)、引用格式等。
其他信息
《Crystal Research And Technology》雜志出版周期：Monthly，出版地區(qū)：GERMANY，語言：English。
該雜志屬于中科院分區(qū)中大類學科材料科學領(lǐng)域的4區(qū)，小類學科CRYSTALLOGRAPHY晶體學領(lǐng)域的4區(qū)。
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| 材料科學 | 4區(qū) | CRYSTALLOGRAPHY 晶體學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 材料科學 | 4區(qū) | CRYSTALLOGRAPHY 晶體學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 材料科學 | 4區(qū) | CRYSTALLOGRAPHY 晶體學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 物理 | 4區(qū) | CRYSTALLOGRAPHY 晶體學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 材料科學 | 4區(qū) | CRYSTALLOGRAPHY 晶體學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
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| 材料科學 | 4區(qū) | CRYSTALLOGRAPHY 晶體學 | 4區(qū) | 否 | 否 |
在JCR分區(qū)中為Q3（ 按JIF指標學科分區(qū)學科為CRYSTALLOGRAPHY，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名18 / 33，百分位47%； 按JCI指標學科分區(qū)在學科為CRYSTALLOGRAPHY，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名14 / 33，百分位59.09% ）。
目前是未開放獲取期刊（OA） ，審稿周期預(yù)計為：平均審稿速度為 ，影響因子指數(shù)1.5。
該雜志創(chuàng)刊至今，在材料科學-晶體學領(lǐng)域，影響力非凡，對來稿文章質(zhì)量要求很高，稿件投稿過審難度很大，刊登文章的學術(shù)水平和編輯質(zhì)量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發(fā)表論文，你可以向編輯部提交文章，但文章必須具有重要意義并代表該領(lǐng)域?qū)I(yè)的發(fā)展。我們歡迎廣大同領(lǐng)域的研究者提交投稿。
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