如果論文被《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志拒稿，可以采取以下策略進(jìn)行應(yīng)對和改進(jìn)，以提高再次投稿的成功率：

一、分析拒稿原因

1.仔細(xì)閱讀審稿意見：編輯和審稿人通常會提供詳細(xì)的拒稿理由，包括研究創(chuàng)新性不足、實驗方法缺陷等。

2.區(qū)分“可修改”與“不可修改”問題：

可修改：如語言問題、格式不符、實驗補(bǔ)充等，可針對性改進(jìn)。

不可修改：如期刊主題不符，則需另選目標(biāo)期刊。

二、針對反饋，修改完善

補(bǔ)充實驗或數(shù)據(jù)：針對審稿人提出的數(shù)據(jù)或分析缺陷，補(bǔ)充實驗以增強(qiáng)說服力。?

強(qiáng)化創(chuàng)新性：明確論文填補(bǔ)的研究空白，并在引言和討論部分突出其學(xué)術(shù)價值?。

語言與格式規(guī)范：使用專業(yè)工具潤色語言，確保格式符合目標(biāo)期刊要求?。?

三、調(diào)整投稿策略

修改后重投原期刊?：若編輯允許修改后重投（如“大修”狀態(tài)），需逐條回復(fù)審稿意見并提交修訂稿。

改投其他期刊?：若因“選題不匹配”被拒，選擇研究方向更契合的期刊。

通過這些措施，作者可以將拒稿轉(zhuǎn)化為學(xué)術(shù)成長的機(jī)會，進(jìn)一步提升自己的研究能力。

《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志簡介與數(shù)據(jù)分析

基本信息：

創(chuàng)刊時間：2003年

出版商：Elsevier

出版周期：Tri-annual

出版語言：English

國際簡稱：PHOTONIC NANOSTRUCT

中文名稱：光子學(xué)和納米結(jié)構(gòu)-基礎(chǔ)與應(yīng)用

ISSN：1569-4410；E-ISSN：1569-4429

研究方向：工程技術(shù)-材料科學(xué)：綜合?

權(quán)威數(shù)據(jù)庫：SCIE

定位與覆蓋范圍：

定位：專注發(fā)布工程技術(shù)-材料科學(xué)：綜合領(lǐng)域的學(xué)術(shù)期刊。

覆蓋范圍：涵蓋材料科學(xué)：綜合等領(lǐng)域的最新研究成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動態(tài)等，旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。

數(shù)據(jù)與影響力分析

影響因子：根據(jù)最新數(shù)據(jù)，《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志的影響因子為2.5，顯示其在工程技術(shù)-材料科學(xué)：綜合領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力。

分區(qū)信息：在中科院最新升級版分區(qū)表中，《Photonics And Nanostructures-fundamentals And Applications》雜志位于大類學(xué)科物理與天體物理3區(qū)，小類學(xué)科PHYSICS, APPLIED物理：應(yīng)用3區(qū)。小類學(xué)科MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY材料科學(xué)：綜合4區(qū)。小類學(xué)科NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY納米科技4區(qū)。小類學(xué)科OPTICS光學(xué)4區(qū)。同時，在JCR分區(qū)中，該雜志位于Q2區(qū)，表明其學(xué)術(shù)水平較高。

投稿咨詢

年發(fā)文量：77，審稿周期預(yù)計為：平均審稿速度為 較慢,6-12周 約10周，CiteScore：5、SJR：0.41、SNIP：0.785。

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