根據(jù)最新信息《Journal Of Synchrotron Radiation》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名29 / 76，百分位62.5%；OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名50 / 119，百分位58.4%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區(qū)，排名96 / 179，百分位46.6%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名29 / 76，百分位62.5%OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名49 / 120，百分位59.58%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名61 / 179，百分位66.2%。
投稿咨詢(xún)| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 29 / 76 |
62.5% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 50 / 119 |
58.4% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 96 / 179 |
46.6% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION | SCIE | Q2 | 29 / 76 |
62.5% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 49 / 120 |
59.58% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 61 / 179 |
66.2% |
這表明該刊在儀器儀表領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時(shí)間：1994年，影響因子：2.4，出版周期：Bimonthly、出版商：International Union of Crystallography以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
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