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Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志簡介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》重點專注發布工程技術-工程：化工領域的新研究，旨在促進和傳播該領域相關的新技術和新知識。鼓勵該領域研究者詳細地發表他們的高質量實驗研究和理論結果。該雜志創刊至今，在工程技術-工程：化工領域，有較高影響力，對來稿文章質量要求較高，稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領域研究者投稿該雜志。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志中科院分區

中科院SCI分區數據

中科院SCI期刊分區（2023年12月升級版）

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
物理與天體物理	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區	否	否

中科院SCI期刊分區（2022年12月升級版）

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
工程技術	3區	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用	2區 3區 3區	否	否

中科院SCI期刊分區（2021年12月舊的升級版）

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區	否	否

中科院SCI期刊分區（2021年12月基礎版）

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區 3區 2區	否	否

中科院SCI期刊分區（2021年12月升級版）

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區	否	否

中科院SCI期刊分區（2020年12月舊的升級版）

大類學科	分區	小類學科	分區	Top期刊	綜述期刊
工程技術	3區	ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	3區 3區 3區	否	否

中科院分區趨勢圖

影響因子趨勢圖

中科院JCR分區：中科院JCR期刊分區（又稱分區表、分區數據）是中國科學院文獻情報中心世界科學前沿分析中心的科學研究成果，是衡量學術期刊影響力的一個重要指標，一般而言，發表在1區和2區的SCI論文，通常被認為是該學科領域的比較重要的成果。

影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志JCR分區

Web of Science 數據庫（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q3	91 / 170	46.8%
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	81 / 179	55%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	12 / 40	71.3%

按JCI指標學科分區	收錄子集	分區	排名	百分位
學科：ENGINEERING, CHEMICAL	SCIE	Q2	55 / 171	68.13%
學科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	69 / 179	61.73%
學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q2	17 / 40	58.75%

Plasma Chemistry And Plasma Processing CiteScore 評價數據（2024年最新版）

CiteScore：5.9
SJR：0.48
SNIP：0.912

CiteScore 排名

學科類別	分區	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q1	108 / 434	75%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films	Q2	34 / 132	74%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemical Engineering	Q2	79 / 273	71%
大類：Physics and Astronomy 小類：General Chemistry	Q2	119 / 408	70%

CiteScore趨勢圖

年發文量趨勢圖

CiteScore：是由Elsevier2016年發布的一個評價學術期刊質量的指標，該指標是指期刊發表的單篇文章平均被引用次數。CiteScore和影響因子的作用是一樣的，都是可以體現期刊質量的重要指標，給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志發文統計

文章名稱引用次數
Effect of Cold Atmospheric Pressure Plasma on Maize Seeds: Enhancement of Seedlings Growth and Surface Microorganisms Inactivation23
Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Induce Adaptive Response in Pea Seeds14
Inactivation of Shewanella putrefaciens by Plasma Activated Water13
Seed Priming with Non-thermal Plasma Modified Plant Reactions to Selenium or Zinc Oxide Nanoparticles: Cold Plasma as a Novel Emerging Tool for Plant Science13
Stimulation of the Germination and Early Growth of Tomato Seeds by Non-thermal Plasma12
Evaluation of Oxidative Species in Gaseous and Liquid Phase Generated by Mini-Gliding Arc Discharge12
Non-thermal Plasma Induced Expression of Heat Shock Factor A4A and Improved Wheat (Triticum aestivum L.) Growth and Resistance Against Salt Stress11
Effect of the Magnetic Field on the Magnetically Stabilized Gliding Arc Discharge and Its Application in the Preparation of Carbon Black Nanoparticles9
On the Possibilities of Straightforward Characterization of Plasma Activated Water8
Plasma Activated Organic Fertilizer8
國家/地區發文量
CHINA MAINLAND70
Russia37
USA29
France26
GERMANY (FED REP GER)21
Czech Republic15
Iran14
India12
Japan12
Poland11
機構發文發文量
RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES24
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)21
CZECH ACADEMY OF SCIENCES10
XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY10
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES9
DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY9
COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA7
IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & TECHNOLOGY7
STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA7
KOREA UNIVERSITY6

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志社通訊方式

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