《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志社的通訊方式如下：SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。
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期刊簡介：
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本由Springer US出版商出版的物理與天體物理學術期刊，國際簡稱為PLASMA CHEM PLASMA P，中文名稱《等離子化學和等離子處理》。該刊自1981年創刊以來，一直以年度Quarterly形式出版。并被國際知名權威數據庫SCIE收錄。
該刊專注于工程：化工及相關領域的前沿研究，致力于推動該領域新技術和新知識的傳播與應用。它鼓勵研究人員詳細發表高質量的實驗研究和理論成果，為學術交流提供高質量的平臺。
該刊的平均審稿周期 較慢,6-12周 。自創刊以來， 《Plasma Chemistry And Plasma Processing》在工程：化工領域一直具有很高的影響力，對稿件質量要求嚴格。
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的影響因子為2.6，屬于未開放OA期刊，Gold OA文章占比：14.18%。且被收錄于國際知名權威數據庫SCIE。
投稿咨詢影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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