根據最新信息《Plasma Chemistry And Plasma Processing》期刊在JCR分區中的排名如下：
按JIF指標學科分區學科為ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名91 / 170，百分位46.8%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名81 / 179，百分位55%；PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名12 / 40，百分位71.3%；按JCI指標學科分區在學科為ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名55 / 171，百分位68.13%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名69 / 179，百分位61.73%PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，位于Q2區，排名17 / 40，百分位58.75%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
| 學科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75% |
這表明該刊在工程：化工領域具有較高的學術影響力和認可度。此外，該刊創刊時間：1981年，影響因子：2.6，出版周期：Quarterly、出版商：Springer US以及收錄情況等信息也為其學術影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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