根據最新信息《Journal Of Vacuum Science & Technology B》期刊在JCR分區中的排名如下：
按JIF指標學科分區學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名252 / 352，百分位28.6%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名115 / 140，百分位18.2%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名134 / 179，百分位25.4%；按JCI指標學科分區在學科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名278 / 354，百分位21.61%NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名115 / 140，百分位18.21%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名145 / 179，百分位19.27%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 252 / 352 |
28.6% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.2% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 134 / 179 |
25.4% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 354 |
21.61% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.21% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 145 / 179 |
19.27% |
這表明該刊在工程：電子與電氣領域具有較高的學術影響力和認可度。此外，該刊創刊時間：1991年，影響因子：1.5，出版周期：Bimonthly、出版商：A V S AMER INST PHYSICS以及收錄情況等信息也為其學術影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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