根據最新信息《Recent Patents On Nanotechnology》期刊在JCR分區中的排名如下：
按JIF指標學科分區學科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名292 / 438，百分位33.4%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名109 / 140，百分位22.5%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名114 / 179，百分位36.6%；按JCI指標學科分區在學科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名355 / 438，百分位19.06%NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名119 / 140，百分位15.36%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名151 / 179，百分位15.92%。
投稿咨詢| 按JIF指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 292 / 438 |
33.4% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 109 / 140 |
22.5% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 114 / 179 |
36.6% |
| 按JCI指標學科分區 | 收錄子集 | 分區 | 排名 | 百分位 |
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q4 | 355 / 438 |
19.06% |
| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 119 / 140 |
15.36% |
| 學科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 151 / 179 |
15.92% |
這表明該刊在材料科學：綜合領域具有較高的學術影響力和認可度。此外，該刊創刊時間：2007年，影響因子：2，出版周期：3 issues/year、出版商：Bentham Science Publishers B.V.以及收錄情況等信息也為其學術影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
聲明：以上信息摘自網絡公開資料，如有不準確，請聯系我們。
