《Recent Patents On Nanotechnology》雜志主要接收以下類型的文章：

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY領域的研究?：文章內容涵蓋NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY領域的最新研究成果、技術革新和學術動態。

高質量學術論文?：雜志對文章質量要求較高，通常接收具有創新性和學術價值的研究成果。

投稿要求

內容要求：投稿的文章應涵蓋材料科學的關鍵主題，提供最新的研究進展和學術動態。

格式要求：投稿者需要遵循《Recent Patents On Nanotechnology》雜志的投稿要求和格式規范，包括文章結構、引用格式等。

其他信息

《Recent Patents On Nanotechnology》雜志出版周期：3 issues/year，出版地區：U ARAB EMIRATES，語言：English。

該雜志屬于中科院分區中大類學科材料科學領域的4區，小類學科MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY材料科學：綜合領域的4區。小類學科NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY納米科技領域的4區。小類學科PHYSICS, APPLIED物理：應用領域的4區。

投稿咨詢

在JCR分區中為Q3（ 按JIF指標學科分區學科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名292 / 438，百分位33.4%；NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名109 / 140，百分位22.5%；PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q3區，排名114 / 179，百分位36.6%； 按JCI指標學科分區在學科為MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名355 / 438，百分位19.06%NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名119 / 140，百分位15.36%PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，位于Q4區，排名151 / 179，百分位15.92% ）。

目前是未開放獲取期刊（OA） ，審稿周期預計為：平均審稿速度為 約3.0個月 ，影響因子指數2。

該雜志創刊至今，在材料科學-材料科學：綜合領域，影響力非凡，對來稿文章質量要求很高，稿件投稿過審難度很大，刊登文章的學術水平和編輯質量在同類雜志中均名列前茅。如果你想在該雜志上發表論文，你可以向編輯部提交文章，但文章必須具有重要意義并代表該領域專業的發展。我們歡迎廣大同領域的研究者提交投稿。

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