《Recent Patents On Nanotechnology》雜志社的通訊方式如下：EXECUTIVE STE Y-2, PO BOX 7917, SAIF ZONE, SHARJAH, U ARAB EMIRATES, 1200 BR。
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期刊簡介：
《Recent Patents On Nanotechnology》是一本由Bentham Science Publishers B.V.出版商出版的材料科學學術期刊，國際簡稱為RECENT PAT NANOTECH，中文名稱《最近的納米技術專利》。該刊自2007年創刊以來，一直以年度3 issues/year形式出版。并被國際知名權威數據庫SCIE收錄。
該刊專注于材料科學：綜合及相關領域的前沿研究，致力于推動該領域新技術和新知識的傳播與應用。它鼓勵研究人員詳細發表高質量的實驗研究和理論成果，為學術交流提供高質量的平臺。
該刊的平均審稿周期 約3.0個月 。自創刊以來， 《Recent Patents On Nanotechnology》在材料科學：綜合領域一直具有很高的影響力，對稿件質量要求嚴格。
《Recent Patents On Nanotechnology》雜志的影響因子為2，屬于未開放OA期刊，Gold OA文章占比：0.00%。且被收錄于國際知名權威數據庫SCIE。
投稿咨詢影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項數據，現已成為國際上通用的期刊評價指標，不僅是一種測度期刊有用性和顯示度的指標，而且也是測度期刊的學術水平，乃至論文質量的重要指標。
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